„ASML“ užsakymų knyga pasiekė rekordinį 38,8 mlrd. eurų lygį, tačiau entuziazmą dėl naujos kartos litografijos sistemų stabdo skaudi realybė: ne kiekvienas didysis lustų gamintojas pasirengęs mokėti už šią pažangą. Nors rinkos lūkesčiai dėl įrangos milžinės akcijų augimo išlieka aukšti, fundamentalus susiskaldymas tarp klientų dėl „High-NA“ technologijos įdiegimo tampa pagrindiniu 2026 metų iššūkiu.

Kaina, kurią sunku pagrįsti

Šiuo metu standartinė 0,33 skaitinės apertūros (NA) litografijos sistema kainuoja apie 150–200 mln. JAV dolerių, tačiau naujosios „High-NA“ (0,55 NA) sistemos kaina viršija 380 mln. dolerių už vienetą. Šis kainų šuolis verčia gamintojus skaičiuoti ne tik įrangos įsigijimo, bet ir visą nuosavybės kainą, įskaitant 3–6 mėnesių kvalifikavimo laikotarpį bei nuolatines energijos sąnaudas.

„ASML“ užsakymų knyga ir pakelta 2026 metų prognozė rodo didžiulę paklausą, tačiau „TSMC“ nenoras skubėti diegti brangią „High-NA“ technologiją iki 2029 metų sukuria takoskyrą pramonėje. Kol „Intel“ jau 2024 metais įdiegė pirmąją komercinę „High-NA“ sistemą savo 14A (1,4 nm klasės) mazgui, kiti rinkos dalyviai elgiasi atsargiau. Tai nėra tik techninis klausimas – tai finansinis modelis, kuriame paskutiniai 10 proc. technologinio proceso kainuoja skaudžiausiai, o apie 30 proc. visos energijos tiesiog virsta šiluma.

Gamyklų statybos – ne tik įranga

Pažangių lustų gamyba reikalauja daugiau nei tik litografijos. Tai sudėtingas metrologijos, patikros ir skaičiuojamosios litografijos derinys, būtinas norint išlaikyti gamybos ekonomiškumą. Gamyklų statybos kaštai yra milžiniški: pavyzdžiui, „Samsung“ į gamyklą Teilore, Teksase, investavo bent 17 mlrd. dolerių, tačiau tik 6 mlrd. iš jų skirta tiesioginei statybai.

Be to, gamybos aplinka reikalauja ekstremalaus tikslumo. Griežčiausias vibracijos ribojimo standartas (VC-E) nustato 3,12 mikrometro per sekundę ribą, todėl gamyklų pamatai turi būti mechaniškai atskirti nuo likusio pastato konstrukcijų. Vidutinė gamykla per dieną sunaudoja 10 mln. galonų itin gryno vandens – tiek, kiek 33 tūkst. namų ūkių. Šiame kontekste 40–50 proc. visų įrangos išlaidų tenka ėsdinimo ir nusodinimo sistemoms, kurios yra ne mažiau svarbios nei pati litografija.

Rinkos dinamika ir Kinijos ambicijos

Pasaulinė ekstremalaus ultravioletinio spinduliavimo (EUV) medžiagų ir jutiklių rinka 2026 metus pasitinka su disciplinuotesniu pirkimo elgesiu ir regioniniu mastu diversifikuota tiekimo architektūra. „IndexBox“ duomenimis, šis sektorius įžengė į struktūriškai pagreitėjusio augimo fazę, kurioje paklausa 2026–2035 metais turėtų augti 8–12 proc. metiniu tempu.

Tuo tarpu Kinija, nors ir demonstruoja pažangą, vis dar susiduria su kliūtimis. Nors šalis gali gaminti prototipus, ji vis dar nepasiekia EUV litografijai reikalingo grynumo lygio. Kinijos pramonės atstovai 2030 metus įvardija kaip „realistinį tikslą“ pradėti gaminti veikiančius lustus, tačiau skeptikai mano, kad komercinis gyvybingumas gali užtrukti dešimtmečius. Svarbu prisiminti, kad EUV sistemos yra globalaus bendradarbiavimo rezultatas: pavyzdžiui, CO2 lazerius tiekia Vokietijos „Trumpf“, o šviesos šaltinio modulius – „Cymer“, kurią „ASML“ įsigijo dar 2013 metais.

Kas laukia 2026 metais

„High-NA“ mastelio keitimas išlieka pagrindiniu kintamuoju, kurį stebės rinka. Nors „Susquehanna“ pakėlė „ASML“ akcijų tikslinę kainą iki 2350 eurų, kas reikštų beveik 46 proc. augimą nuo dabartinio lygio, akcijų kaina vis dar yra apie 8 proc. žemiau birželio mėnesį pasiektos 1748 eurų viršūnės.

Investuotojams ir pramonės stebėtojams svarbiausia bus ne tik užsakymų skaičius, bet ir tai, kaip greitai „High-NA“ technologija taps ekonomiškai pagrįsta platesniam gamintojų ratui. Kol kas „ASML“ sėkmė priklauso nuo to, ar pavyks įtikinti didžiuosius klientus, kad technologinis šuolis atperka milžiniškas kapitalo sąnaudas. Tai nėra investavimo patarimas.

Šaltiniai

  1. [1] [Yurunox.com | 2026-07-04] The Real Cost of EUV Lithography Inside a Chip Fab
  2. [2] [Thediplomat.com | 2026-07-08] China’s EUV Lithography Progress: Parsing Signal From Noise
  3. [3] [Qz.com | 2026-07-09] Semiconductor chip plants cost a ton of money. Here's why
  4. [4] [Ad-hoc-news.de | 2026-07-06] ASML’s Record Backlog Meets a High-NA Chasm: Can Orders Keep the €2,350 Target in Play?
  5. [5] [X.com] Making advanced chips requires more than advanced lithography.
  6. [6] [X.com] MIT @techreview explores how High NA EUV is powering the future of chipmaking. AI needs more powerful chips, and High NA